特許

J-GLOBAL ID：200903045791090465

液晶性シロキサン、その製造方法、液晶性ポリオルガノシロキサンの製造方法およびこれから成る膜

発明者： ユルゲン シュトーラー ,  ヴィリーバルト ロットナー
出願人/特許権者： コンゾルテイウム フユール エレクトロケミツシエ インヅストリー ゲゼルシヤフト ミツト ベシユレンクテル ハフツング
代理人 (1件)： 矢野 敏雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-317262
公開番号（公開出願番号）：特開平7-238084
出願日： 1994年12月20日
公開日（公表日）： 1995年09月12日
要約：

【要約】【目的】 低粘度の特性を有する特定の組成の完全に重合可能な液晶性シロキサンの提供【構成】 一般式I【化1】〔式中、Y1は、メソゲン基を有するアルキル-またはアルケニル基、Y2は、少なくとも1個の重合可能な基および少なくとも1個の2価の環状基を 有する有機基Rは、C1〜C3-アルキル基、かつπは、1〜5の値の整数を表す〕の液晶性シロキサン

請求項（抜粋）：

一般式I【化1】〔式中、Y1は、メソゲン基を有するアルキル-またはアルケニル基、Y2は、少なくとも1個の重合可能な基および少なくとも1個の2価の環状基を有する有機基Rは、C1〜C3-アルキル基、かつπは、1〜5の値の整数を表す〕の液晶性シロキサン。

IPC (4件)：

C07F 7/08 ,  C08F299/08 MRY ,  C09K 19/40 ,  G02F 1/13 500

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開昭57-165480
  
• 特開昭60-252486
  
• 特開昭58-017119