特許

J-GLOBAL ID：200903045804021921

回転式基板処理装置

発明者： 谷口 勲
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (2件)： 吉竹 英俊 ,  有田 貴弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-195402
公開番号（公開出願番号）：特開2009-032898
出願日： 2007年07月27日
公開日（公表日）： 2009年02月12日
要約：

【課題】装置を停止することなく不具合の発生を未然に防止することができる回転式基板処理装置を提供する。【解決手段】エッジ露光ユニットEEW1は、基板Wを回転させつつ露光ヘッド530から光を照射して基板Wの端縁部を露光する。端縁部の露光処理に先立って、保持回転部200によって基板Wを1回転させつつエッジセンサ800が基板Wの端縁部の位置を検知してエッジデータを取得する。EEWコントローラ900は、取得されたエッジデータに基づいて、基板Wの偏心量の異常、基板WのノッチNTの角度異常およびエッジセンサ800の異常の有無を判断する。そして、エッジデータに異常有りと判断されたときには、EEWコントローラ900アラーム発報を行う。【選択図】図6

請求項（抜粋）：

基板を回転させつつ所定の処理を行う回転式基板処理装置であって、 基板を保持して回転させる保持回転手段と、 前記保持回転手段に保持される基板の端縁部の位置を検知する端縁部検知手段と、 前記所定の処理を行う前に、前記保持回転手段に基板を回転させつつ当該基板の端縁部の位置を前記端縁部検知手段に順次検知させて当該基板の端縁部位置情報を含むエッジデータを取得する端縁部位置情報取得手段と、 取得された前記エッジデータを監視する監視手段と、 を備えることを特徴とする回転式基板処理装置。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  H01L 21/304 ,  H01L 21/306 ,  G02F 1/13

FI (4件)：

H01L21/30 577 ,  H01L21/304 648G ,  H01L21/306 R ,  G02F1/13 101

Fターム (24件)：

2H088FA16 ,  2H088FA17 ,  2H088FA21 ,  2H088FA25 ,  2H088FA30 ,  2H088HA01 ,  2H088MA20 ,  5F043DD13 ,  5F043EE07 ,  5F043EE08 ,  5F043EE35 ,  5F046AA28 ,  5F046BA07 ,  5F157AA12 ,  5F157AB33 ,  5F157AB62 ,  5F157AB90 ,  5F157BG42 ,  5F157CD16 ,  5F157CE21 ,  5F157CF42 ,  5F157CF50 ,  5F157CF76 ,  5F157DB02

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 基板処理装置及び基板受け渡し位置の調整方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-131412   出願人：東京エレクトロン株式会社