特許
J-GLOBAL ID:200903045805741332

サンプル処理装置とキャリア

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (4件): 石田 敬 ,  鶴田 準一 ,  西山 雅也 ,  樋口 外治
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-506067
公開番号(公開出願番号):特表2004-516127
出願日: 2001年06月28日
公開日(公表日): 2004年06月03日
要約:
同時に複数のサンプルを熱処理するための方法と装置が開示される。アセンブリは、キャリアと、主導管と流体連通すして配置された一組のプロセスチャンバにサンプル材料を分配する際に有用な導管を含むプロセスアレイを有するサンプル処理装置とを含む。このサンプル処理装置は、変形可能なシールと、オフセットされた場所で主導管を出ていくフィーダ導管により主導管に接続されたプロセスチャンバと、U字型の装填チャンバと、メルトボンディング領域および接着剤により結合された領域の組合せといった様々な組合せの特性を1つ以上含んでいてもよい。キャリアは、サンプル処理装置に選択的な圧縮を適用するのに使用してもよい。
請求項(抜粋):
サンプル処理装置であって、 第2側に取り付けられた第1側を備える本体と、 前記第1および第2側の間に形成された複数のプロセスアレイであって、それらプロセスアレイの各々が、装填構造体、長さを有する主導管、該主導管に沿って分布した複数のプロセスチャンバ、および該装填構造体と該複数のプロセスチャンバとの間に配置された変形可能なシールを備え、該主導管が該装填構造体および該複数のプロセスチャンバに流体連通している複数のプロセスアレイと、 を備えるサンプル処理装置と、 前記サンプル処理装置に取り付けられたキャリアであって、 前記サンプル処理装置に対向する第1表面および前記サンプル処理装置から離背する第2表面と、 前記キャリアの前記第1表面に近接した複数の主導管支持レールであって、前記複数のプロセスアレイの各主導管が前記複数の主導管支持レールの1つの主導管支持レールに対し整列配置される複数の主導管支持レールと、 前記キャリアの前記第1および第2表面を通して形成された複数の開口部であって、それら開口部の各々が前記複数のプロセスチャンバの1つに対し整列配置される複数の開口部と、 を備えるキャリアと、 を具備するサンプル処理アセンブリ。
IPC (1件):
B01J19/00
FI (1件):
B01J19/00 321
Fターム (10件):
4G075AA70 ,  4G075DA02 ,  4G075EA06 ,  4G075EB21 ,  4G075EC06 ,  4G075EE03 ,  4G075EE21 ,  4G075FA12 ,  4G075FB02 ,  4G075FB12

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