特許

J-GLOBAL ID：200903045809375861

光線吸収膜

発明者： 佐藤 幸夫 ,  国分 靖明
出願人/特許権者： 佐藤 幸夫 ,  国分 靖明
代理人 (1件)： 奈良 武
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-302497
公開番号（公開出願番号）：特開平5-113665
出願日： 1991年10月22日
公開日（公表日）： 1993年05月07日
要約：

【要約】【目的】 樹脂板、ガラス板などの基板との密着性が良好で、耐候性、硬度を有した光線吸収膜とする。【構成】 紫外線、赤外線などの光線の吸収剤をジメチルアミノエチルメタアクリレートとヒドロキシエチルメタアクリレートとの重合耐に混合し、硬化剤を添加して樹脂板、ガラス板などの基板に垂れ流して光線吸収膜を構成する。

請求項（抜粋）：

ジメチルアミノエチルメタアクリレートとヒドロキシエチルメタアクリレートとの重合体に光線吸収剤を混合したことを特徴とする光線吸収膜。

IPC (7件)：

G03F 7/032 ,  C09K 3/00 104 ,  C09K 3/00 105 ,  G03F 7/004 506 ,  G03F 7/027 501 ,  G03F 7/028 ,  G03F 7/11 501