特許

J-GLOBAL ID：200903045835101745

露光装置及び露光方法

発明者： 加藤 正紀
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-212438
公開番号（公開出願番号）：特開平8-078310
出願日： 1994年09月06日
公開日（公表日）： 1996年03月22日
要約：

【要約】【目的】 よりスループットが高く、ステップ動作に起因して生じる位置ずれを発生させない。【構成】 第1のフォトマスクM1 を保持する第1マスクステージと、第2のフォトマスクM2 を保持する第2マスクステージとは、これらが走査方向(Z方向)に沿って配列されるように主ステージ上に設けられる。この主ステージと、基板Pを保持する基板ステージとは、走査方向に沿って可動に設けられる。

請求項（抜粋）：

フォトマスク上のパターンを基板上に投影する投影光学系を有し、前記フォトマスクと前記基板とを前記投影光学系に対して移動させつつ、照明光学系による照明光に基づいて前記パターンを前記基板上に露光する露光装置において、第1のフォトマスクを保持する第1マスクステージと、第2のフォトマスクを保持する第2マスクステージと、前記第1及び第2マスクステージが前記フォトマスクの移動方向に沿って配列されるように設けられた主ステージと、前記基板を保持する基板ステージとを有し、前記主ステージと前記基板ステージとは、前記移動方向に沿って可動に構成されることを特徴とする露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521