特許
J-GLOBAL ID：200903045835691224
検査装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
佐藤 隆久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-207829
公開番号（公開出願番号）：特開平11-052547
出願日： 1997年08月01日
公開日（公表日）： 1999年02月26日
要約：
【要約】【課題】 無欠陥検査、短寸法精度検査、長寸法精度検査を効果的に行う半導体デバイス用フォトマスク検査装置とその方法を提供する。【解決手段】 フォトマスク検査装置は、フォトマスクの全領域を順次走査して欠陥がないことを検査する無欠陥保証認識部4と、短寸法精度検査の走査領域を設定する短寸法精度走査位置設定部11と、設定されたフォトマスク位置について短寸法精度を検査する短寸法精度保証認識部1と、長寸法精度検査の走査領域を設定する長寸法精度走査位置設定部12と、設定されたフォトマスク位置について長寸法精度を検査する長寸法精度保証認識部2を有する。短寸法精度保証認識部1は、無欠陥保証認識部4がフォトマスクの所定領域を走査しその検査を行うとき、走査位置が設定された短寸法精度検査領域と一致したとき短寸法精度を検査する。長寸法精度保証認識部2は、無欠陥保証認識部4が検査対象のフォトマスクの所定領域を走査しその検査を行うとき、走査位置が設定された長寸法精度検査領域と一致したとき長寸法精度を検査する。
請求項（抜粋）：
半導体デバイスの製造に使用する半導体装置パターン転写用フォトマスク検査装置であって、フォトマスクの全領域を走査して当該フォトマスクに欠陥がないことを検査する無欠陥検査手段と、短寸法精度検査の走査領域を設定する短寸法精度走査領域設定手段と設定されたフォトマスクの設定位置について短寸法精度を検査する短寸法精度保証認識手段とを有し、前記短寸法精度保証認識手段は、前記無欠陥検査手段が検査対象のフォトマスクの所定領域を走査しその検査を行うとき、走査位置が前記設定された短寸法精度検査位置と一致したとき、短寸法精度を検査する半導体装置パターン転写用フォトマスク検査装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F 1/08 S
, H01L 21/30 502 P
