レーザー描画装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：勝又弘好 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-118575
公開番号（公開出願番号）：特開平11-311881
出願日： 1998年04月28日
公開日（公表日）： 1999年11月09日
要約：

【要約】【課題】色調等の微妙な変化を防止することができるレーザー描画装置を提供する。【解決手段】静電潜像の形成単位毎に、又はこの形成単位の複数単位毎に、光量検出結果S3をサンプルホールドしてレーザービームLFの光量を制御するため、従来に比して高い精度によりレーザービームLFの光量を制御することができ、これによりカラー画像においてはその分色調等の微妙な変化を防止することが可能となり、また白黒画像においては、階調の微妙な変化を防止することが可能となる。

請求項（抜粋）：

感光体にレーザービームを走査して、前記感光体に静電潜像を作成するレーザー描画装置において、前記レーザービームの光量を検出して光量検出結果を出力する光量検出手段と、前記静電潜像の形成単位毎に、又は複数の前記形成単位毎に、前記光量検出結果をサンプルホールドし、サンプルホールド結果を出力するサンプルホールド手段と、前記サンプルホールド結果に基づいて前記レーザービームの光量を制御する制御手段とを有することを特徴とするレーザー描画装置。

IPC (3件)：

G03G 15/00 303 , B41J 2/44 , G03G 15/04

FI (3件)：

G03G 15/00 303 , G03G 15/04 , B41J 3/00 D

引用特許：

審査官引用 (1件)

画像形成装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-102747 出願人：株式会社リコー

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