特許
J-GLOBAL ID:200903045846353517

研磨体

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 柳田 征史 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-103930
公開番号(公開出願番号):特開平8-294872
出願日: 1995年04月27日
公開日(公表日): 1996年11月12日
要約:
【要約】【目的】 研磨層による被研磨物の研磨の課程において無機塩が生じ、被研磨物に錆等が発生して耐久性等が低下するのを、研磨剤の選択により防止する。【構成】 研磨剤21とバインダー22からなる研磨層20を支持体10上に有してなる研磨体において、研磨剤21は、研磨剤微粉末中のナトリウム分のNaO換算含有率が0.1wt%以下、α結晶粒径が5μm以下の酸化アルミニウムを含有してなる。
請求項(抜粋):
研磨剤とバインダーからなる研磨層を支持体上に有してなる研磨体において、前記研磨剤は、研磨剤微粉末中のナトリウム分のNaO換算含有率が0.1wt%以下、α結晶粒径が5μm以下の酸化アルミニウムを含有することを特徴とする研磨体。
IPC (4件):
B24D 11/00 ,  B24D 3/00 320 ,  B24D 3/28 ,  C09K 3/14 550
FI (4件):
B24D 11/00 A ,  B24D 3/00 320 A ,  B24D 3/28 ,  C09K 3/14 550 D

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