特許
J-GLOBAL ID：200903045855696265

フリップチップ実装物のフラックス除去用洗浄剤およびフリップチップ実装物の洗浄方法

発明者：
鍛冶 志郎

鍛冶 志郎 について

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増成 嘉一

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西村 浩司

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出願人/特許権者：
荒川化学工業株式会社

荒川化学工業株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-225924
公開番号（公開出願番号）：特開平10-046198
出願日： 1996年08月07日
公開日（公表日）： 1998年02月17日
要約：
【要約】【課題】 フリップチップ実装物のフラックスを洗浄でき、かつフラックス除去後の乾燥性に優れるフリップチップ実装物のフラックス除去用の洗浄剤をを提供すること。【解決手段】 一般式(1):R1 O-(CH2 (R2 )CHO)n -R3 (式中、R1 は水素原子または炭素数1〜5の直鎖もしくは分岐鎖のアルキル基を、R2 は水素原子またはメチル基を、R3 は炭素数1〜5の直鎖もしくは分岐鎖のアルキル基を、nは1〜3の整数を示す)で表されるグリコールエーテル系溶剤を含有してなる非水系の洗浄剤を用いる。
請求項（抜粋）：
一般式(1):R1 O-(CH2 (R2 )CHO)n -R3(式中、R1 は水素原子または炭素数1〜5の直鎖もしくは分岐鎖のアルキル基を、R2 は水素原子またはメチル基を、R3 は炭素数1〜5の直鎖もしくは分岐鎖のアルキル基を、nは1〜3の整数を示す)で表されるグリコールエーテル系溶剤を含有してなる非水系のフリップチップ実装物のフラックス除去用洗浄剤。
IPC (6件)：
C11D 7/50 ,  C08L 71/02 LPZ ,  C11D 7/26 ,  H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304 ,  H05K 3/26
FI (7件)：
C11D 7/50 ,  C08L 71/02 LPZ ,  C11D 7/26 ,  H01L 21/304 341 L ,  H01L 21/304 341 M ,  H05K 3/26 E ,  H05K 3/26 A
引用特許：
審査官引用 (10件)
  • ハンダフラツクス用洗浄剤組成物
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-321307   出願人：三洋化成工業株式会社
  • 洗浄剤組成物
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-084021   出願人：日本石油化学株式会社
  • 物品の洗浄方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-067482   出願人：株式会社トクヤマ
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