特許

J-GLOBAL ID：200903045857369660

酸化物超電導コイルの製造方法

発明者： 金井 恒行 ,  吉田 隆 ,  斉藤 幸雄
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 平木 祐輔
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-111931
公開番号（公開出願番号）：特開平6-120025
出願日： 1992年04月30日
公開日（公表日）： 1994年04月28日
要約：

【要約】【目的】 酸化物超電導体及びそれを支持する基板とから構成される酸化物超電導コイルの製造方法に関するもので、特に強磁場を発生させるのに最適な酸化物超電導コイルを製造する。【構成】 製造されるコイルの中心軸に対してコイルの内径と外形とを結ぶ直線が中心軸に対して回転したときに、その直線と中心軸との交点が、中心軸の上下一定方向に移動するらせん状の連続面(ヘリコイド面)を有する非超電導体製基板1を用意し、該基板を酸化物超電導体が懸濁した溶液中に浸漬しディップコート法により該基盤上に酸化物超電導体を製膜2し、次いで必要な熱処理を行う。【効果】 ディップコート法を用いることにより超伝導体結晶のC面の基板状に対する配向を基板面に沿った状態とすることが可能となり、良好な超伝導特性を持つコイルを得ることができる。

請求項（抜粋）：

超電導コイルの製造方法であって、製造されるコイルの中心軸に対してコイルの内径と外形とを結ぶ直線が中心軸に対して回転したときに、その直線と中心軸との交点が、中心軸の上下一定方向に移動するらせん状の連続面(ヘリコイド面)を有する非超電導体製基板を用意する工程、該基板を酸化物超電導体が懸濁した溶液中に浸漬しディップコート法により該基盤上に酸化物超電導体を製膜する工程、及び熱処理を行う工程を有することを特徴とする、超電導コイルの製造方法。

IPC (4件)：

H01F 5/08 ZAA ,  H01F 5/08 ,  C01B 13/14 ZAA ,  C01G 1/00