特許
J-GLOBAL ID：200903045861827762
光学薄膜成膜方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
阪本 善朗
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-359409
公開番号（公開出願番号）：特開平6-192820
出願日： 1992年12月25日
公開日（公表日）： 1994年07月12日
要約：
【要約】【目的】 KDP,DKDPあるいはADPの結晶の表面に密着性のよい薄膜を作製する。【構成】 真空室1を減圧し、基板ホルダ4を回転させながらイオンビーム発生装置6からKDP,DKDP,ADPのいずれか一つの結晶からなる基板3の表面にイオンビームを照射し、基板3の表面を少くとも5nm以上エッチングすることで清浄化したのち、クラスターイオンビーム発生装置2からクラスターイオンビームを発生させて基板3の表面に薄膜を蒸着させる。これらの工程は基板3を加熱することなく行われる。
請求項（抜粋）：
りん酸2水素カリウム、りん酸2重水素カリウム、りん酸2水素アンモニウムのいずれか一つの結晶からなる基板の表面に薄膜を蒸着する光学薄膜成膜方法であって、基板の表面を少くとも厚さ5nm以上エッチングする工程と、エッチングされた基板の表面に薄膜を蒸着する工程からなり、前記工程のすべてが、減圧された真空室内で前記基板を加熱することなく行われることを特徴とする光学薄膜成膜方法。
IPC (4件)：
C23C 14/22
, C23C 14/02
, C23C 14/32
, G02B 1/10
