特許
J-GLOBAL ID：200903045870907515
ホログラフィ光学系及びモノクロメータの構成を最適化する方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小林 良平
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-500932
公開番号（公開出願番号）：特表平11-513134
出願日： 1997年06月05日
公開日（公表日）： 1999年11月09日
要約：
【要約】本発明は回折格子基板にホログラフィ溝パターンを記録するための新規な装置を含む。本発明による記録装置は、新たに考案された解析方程式群を利用して構成される。また、本発明は、上記本発明による記録装置を用いて作製される新規なホログラフィック回折格子をも含む。また、本発明は、上記本発明によるホログラフィック回折格子を備えるモノクロメータ及び分光計を含む。また、本発明は、新たに考案された解析方程式群を利用することにより収差が低減されるように構成されたモノクロメータを含む。更にまた、本発明は、新たに考案された解析方程式群を利用することによりモノクロメータや分光計における収差を低減させる方法を含む。
請求項（抜粋）：
回折格子基板上にホログラフィ干渉縞パターンを投影するための装置において、式(34)のメリット関数Qが最小化されるように記録パラメータが決定されていることを特徴とする装置。
IPC (4件)：
G02B 5/32
, G01J 3/18
, G02B 5/18
, G03H 1/04
G02B 5/32
, G01J 3/18
, G02B 5/18
, G03H 1/04
