特許

J-GLOBAL ID：200903045889097590

気相成長方法

発明者： 山脇 秀樹
出願人/特許権者： 富士通株式会社
代理人 (1件)： 井桁 貞一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-214821
公開番号（公開出願番号）：特開平11-061411
出願日： 1997年08月08日
公開日（公表日）： 1999年03月05日
要約：

【要約】【課題】 溶液気化型気相成長において,気化室の目詰まりによるスループットの低下を抑制する。【解決手段】 1)溶液原料を気化した原料ガスを, 該原料ガスの気化温度を越えて予め加熱した有機溶媒を含む不活性なガスで堆積室に搬送する,2)前記有機溶媒はテトラヒドロフランまたは酢酸ブチルである,3)前記不活性なガスが窒素,またはアルゴン,またはヘリウムである。

請求項（抜粋）：

溶液原料を気化した原料ガスを, 該原料ガスの気化温度を越えて予め加熱した有機溶媒を含む不活性なガスで堆積室に搬送することを特徴とする気相成長方法。

IPC (3件)：

C23C 16/44 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/31

FI (3件)：

C23C 16/44 D ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/31 B