特許

J-GLOBAL ID：200903045899639099

高さ測定方法および装置

発明者： 石川 和幸 ,  渡辺 伸之
出願人/特許権者： オリンパス光学工業株式会社
代理人 (1件)： 鈴江 武彦 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-338423
公開番号（公開出願番号）：特開2001-153617
出願日： 1999年11月29日
公開日（公表日）： 2001年06月08日
要約：

【要約】【課題】高さ測定の基準となる基準面を高精度に設定でき、バンプの高さ測定を簡単に、しかも高精度に実現できる高さ測定方法および装置を提供する。【解決手段】ウェハ3面に対しレーザ光を2次元走査しながら照射し、バンプ2およびウェハ3で反射した反射光を光位置検出部5により受光し、この反射光の受光量から各測定点の高さ測定値を求めるとともに、これら測定値に対応する3次元形状図を生成し、この3次元形状図上で指定される測定基準領域における各測定点の高さ測定値の分散値を求め、この分散値が予め設定された分散しきい値以下ならば、測定基準面として採用し、この測定基準面での基準高さを基にバンプ2の高さを求める。

請求項（抜粋）：

測定対象物を有する測定基準面を測定光で走査するとともに、前記測定対象物および前記測定基準面の各測定点で反射される反射光を受光し、この反射光から各測定点の高さ測定値または明るさ測定値を求めるとともに、これら測定値に対応する参照図を作成し、この参照図上で指定される測定基準領域における各測定点の高さ測定値または明るさ測定値の分散値を求め、この分散値が予め設定された分散しきい値以下ならば測定基準面として採用し、該測定基準面での基準高さを基に前記測定対象物の高さを求めることを特徴とする高さ測定方法。

IPC (3件)：

G01B 11/02 ,  H01L 21/66 ,  H01L 21/60

FI (3件)：

G01B 11/02 Z ,  H01L 21/66 J ,  H01L 21/92 604 T

Fターム (32件)：

2F065AA24 ,  2F065BB05 ,  2F065CC17 ,  2F065CC26 ,  2F065DD06 ,  2F065FF01 ,  2F065FF02 ,  2F065FF09 ,  2F065GG04 ,  2F065GG12 ,  2F065HH04 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ16 ,  2F065KK01 ,  2F065LL61 ,  2F065MM16 ,  2F065PP12 ,  2F065QQ23 ,  2F065QQ42 ,  2F065QQ43 ,  2F065RR06 ,  2F065UU05 ,  4M106AA02 ,  4M106AD26 ,  4M106BA05 ,  4M106CA48 ,  4M106DB01 ,  4M106DB04 ,  4M106DB08 ,  4M106DJ04 ,  4M106DJ20 ,  4M106DJ21