特許

J-GLOBAL ID：200903045909378639

化学除染方法及び装置

発明者： 望月 健太 ,  長瀬 誠 ,  中村 文人 ,  穴沢 和美 ,  古川 清治 ,  風間 正彦 ,  吉川 博雄
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所 ,  栗田工業株式会社 ,  栗田エンジニアリング株式会社
代理人 (1件)： 高田 幸彦 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-289695
公開番号（公開出願番号）：特開2000-121791
出願日： 1998年10月12日
公開日（公表日）： 2000年04月28日
要約：

【要約】【課題】 シュウ酸を用いた化学除染終了後の機器・配管表面に付着シュウ酸鉄の除去するとともに、プラント運転開始後の機器・配管表面への放射性核種による再汚染を抑制する。【解決手段】 放射性核種に汚染された金属部材表面からシュウ酸を含む還元除染剤を用いて放射性核種を除去する化学除染法において、少なくともシュウ酸を含有する還元除染剤を用いて還元除染する工程、前記工程の後に分解装置を用いて前記還元除染剤の中のシュウ酸を分解する工程を含む除染工程により、前記金属部材表面から放射性核種を除去した後、前記除染剤を分解した液中に酸化剤を添加して除染系統内を循環させ、除染終了後の金属部材表面に酸化皮膜を形成する酸化処理工程を含む化学除染方法及び前記の工程を含む系統を有する化学除染装置。

請求項（抜粋）：

放射性核種に汚染された金属部材表面から還元除染剤を用いて該放射性核種を除去する化学除染方法において、シュウ酸を含む還元除染剤を用いて還元除染する工程と、前記工程の後に分解装置を用いて該還元除染剤を分解する工程を、少なくとも1回繰り返すことにより、該金属部材表面から放射性核種を除去した後、更に、該還元除染剤の分解に用いた除染液中に酸化剤を添加して除染系統内を循環させ、除染終了後の金属部材表面に酸化皮膜を形成する酸化処理工程を含むことを特徴とする化学除染方法。

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開昭62-067500
  
• 特開昭60-050320
  
• 特開昭62-067500
  
• 特開昭60-050320