特許
J-GLOBAL ID：200903045920670317

MRI磁石構造体

発明者：
アンドリュー・リ

アンドリュー・リ について


出願人/特許権者：
トーシバ アメリカ エムアールアイ インコーポレイテッド

トーシバ アメリカ エムアールアイ インコーポレイテッド について


代理人 (1件)： 鈴江 武彦 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-181605
公開番号（公開出願番号）：特開平10-127604
出願日： 1997年07月07日
公開日（公表日）： 1998年05月19日
要約：
【要約】【課題】本発明の目的は被検体撮影領域における静磁場の均一性を改善するMRI磁石構造体を提供することである。【解決手段】本発明のMRI磁石構造体は、被検体の撮影領域を含む空隙を隔てて対向配置された一対の上部磁極20と下部磁極30と、一対の磁極の間に磁束帰路を形成し、撮影領域を開放するための開口部と空隙より広い有効空間を下部磁極30上に有する上部磁極取付構造とを有する透磁性ヨーク構造と、下部磁極30だけに設けられ、下部磁極30に磁気的に結合されて、空隙の中の撮影領域内にMRI静磁場B0 を発生する超伝導磁石24,26,28とを具備する。
請求項（抜粋）：
被検体の撮影領域を含む空隙を隔てて対向配置された上部磁極と下部磁極とからなる一対の透磁性磁極と、前記一対の磁極の間に磁束帰路を形成するものであって、前記撮影領域を開放するための少なくとも1つの開口部と、前記空隙より広い有効空間を前記下部磁極上に有する上部磁極取付構造とを有する透磁性ヨーク構造と、前記下部磁極だけに設けられ、前記下部磁極に磁気的に結合されて、前記空隙の中の前記撮影領域内にMRI静磁場B0 を発生する磁石とを具備することを特徴とするMRI磁石構造体。
IPC (3件)：
A61B 5/055 ,  G01R 33/3815 ,  G01R 33/3875
FI (3件)：
A61B 5/05 331 ,  G01N 24/06 510 C ,  G01N 24/06 520 J
引用特許：
審査官引用 (5件)
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