特許
J-GLOBAL ID：200903045929750666
リソグラフィ装置およびそのためのクリーニング方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
稲葉 良幸
, 大賀 眞司
, 大貫 敏史
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-516768
公開番号（公開出願番号）：特表2009-510714
出願日： 2006年06月13日
公開日（公表日）： 2009年03月12日
要約：
リソグラフィ装置が開示される。この装置は、水素ラジカルを供給するための供給源、および水素ラジカルが目標とする適用表面に水素ラジカルを誘導するために供給源とともに使用するガイドを含む。このガイドは0.2未満の水素ラジカル再結合定数を有する被覆を備える。このようにして、ラジカルは低減された損失で輸送することができ、ミラー表面などの適用表面上の残留汚染物質と良好に相互作用することができる。
請求項（抜粋）：
EUV放射を生成するための放射源と、
水素ラジカルを供給するための供給源と、
前記水素ラジカルが目標とする適用表面に水素ラジカルを誘導するために、前記水素ラジカル源とともに使用するガイドと
を備え、
前記ガイドが0.2未満の水素ラジカル再結合定数を有する被覆を備える、EUVリソグラフィ装置。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (3件)：
5F046GA04
, 5F046GA09
, 5F046GB01
