特許

J-GLOBAL ID：200903045939988458

顔料組成物および顔料分散体

発明者： 井出 勇作 ,  菊地 二郎 ,  前嶋 満洲彦
出願人/特許権者： 東洋インキ製造株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-305413
公開番号（公開出願番号）：特開平5-117541
出願日： 1991年10月24日
公開日（公表日）： 1993年05月14日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】 高濃度顔料分散体の流動性と、流動性の臨界温度を高めた顔料分散体を提供する。【構成】 顔料100重量部、および、3級アルキルアミノ基を有する一般式(1)、例えば式(2)の顔料誘導体に、(ポリ)オキシアルキレンアルキルエーテルスルホコハク酸エステルナトリウム塩を混合して得られる化合物からなる顔料分散剤0.1〜30重量部からなる顔料組成物、並びに該顔料組成物を分散体ビヒクルに分散させた顔料分散体。P-〔X-(CH2)k-N(R1,R2)〕m (1)(Pはアゾ系、フタロシアニン系、キナクリドン系、アントラキノン系、ジオキサジン系、アントラピリミジン系、アンサンスロン系、インダンスロン系、フラバンスロン系、ピランスロン系、ペリレン系、ペリノン系、チオインジゴ系、ジケトピロロピロール系、イソインドリノン系、イソインドリン系、キノフタロン系から選ばれる少なくとも一種の有機色素残基)

請求項（抜粋）：

顔料100重量部、および、下記一般式(1)で表される顔料誘導体に、(ポリ)オキシアルキレンアルキルエーテルスルホコハク酸エステルナトリウム塩を混合して得られる化合物からなる顔料分散剤0.1〜30重量部からなる顔料組成物。式(1) P-〔X-(CH2 )k -N(R1 ,R2 )〕m (式中、Pはアゾ系、フタロシアニン系、キナクリドン系、アントラキノン系、ジオキサジン系、アントラピリミジン系、アンサンスロン系、インダンスロン系、フラバンスロン系、ピランスロン系、ペリレン系、ペリノン系、チオインジゴ系、ジケトピロロピロール系、イソインドリノン系、イソインドリン系、キノフタロン系から選ばれる少なくとも一種の有機色素残基、Xは直接結合または二価の結合基、R1 、R2 はそれぞれ独立に水素原子、置換基を有してもよいアルキル基、アリール基、またはR1 、R2 で窒素原子または酸素原子を含んでもよい複素環、kは1〜4の整数、mは1〜4の整数、をそれぞれ示す。)

IPC (5件)：

C09B 67/46 ,  C09B 67/20 ,  C09C 3/08 PBU ,  C09C 3/08 PBV ,  C09C 3/10 PCD