特許
J-GLOBAL ID：200903045950108850

観察装置及び観察方法

発明者：
土井 秀明

土井 秀明 について

, 
見坊 行雄

見坊 行雄 について

, 
渡辺 健二

渡辺 健二 について

, 
近藤 由憲

近藤 由憲 について


出願人/特許権者：
株式会社日立製作所

株式会社日立製作所 について


代理人 (1件)： 小川 勝男 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-038178
公開番号（公開出願番号）：特開2001-221749
出願日： 2000年02月10日
公開日（公表日）： 2001年08月17日
要約：
【要約】【課題】ウェハ周辺部、側面、下部の内の少なくとも1個所の観察を精度よく、容易に行なえる観察装置を提供すること。【解決手段】ウェハ1を搭載するステージ2と、ウェハ1を観察する複数の光学系(第1、第2、第3の検出光学系5、6、7)を有し、この複数の光学系が、それぞれステージ2の表面に対して異なる角度の光軸を持ち、この角度を持つ位置で観察可能であるか、又はステージ2の表面に対して同一の角度の光軸を持つが異なる方向から観察可能であるようにした観察装置。
請求項（抜粋）：
被測定試料を搭載するステージと、該被測定試料を観察する光学系を有する観察装置において、上記ステージは、上記被測定試料の外周より小さい径を有することを特徴とする観察装置。
IPC (3件)：
G01N 21/956 ,  G01B 11/30 ,  H01L 21/66
FI (3件)：
G01N 21/956 A ,  G01B 11/30 A ,  H01L 21/66 J
Fターム (34件)：
2F065AA06 ,  2F065AA49 ,  2F065BB03 ,  2F065CC19 ,  2F065DD03 ,  2F065FF01 ,  2F065FF04 ,  2F065JJ19 ,  2F065LL19 ,  2F065MM03 ,  2F065MM04 ,  2F065MM24 ,  2F065QQ31 ,  2F065SS02 ,  2G051AA51 ,  2G051AB02 ,  2G051BB03 ,  2G051CA04 ,  2G051CA07 ,  2G051CC11 ,  2G051DA07 ,  2G051DA09 ,  2G051EA21 ,  4M106AA01 ,  4M106BA04 ,  4M106CA38 ,  4M106DB04 ,  4M106DB11 ,  4M106DJ04 ,  4M106DJ06 ,  4M106DJ07 ,  4M106DJ18 ,  4M106DJ20 ,  4M106DJ23
引用特許：
審査官引用 (4件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM