ビームの測定方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：井島藤治 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-079078
公開番号（公開出願番号）：特開平11-271458
出願日： 1998年03月26日
公開日（公表日）： 1999年10月08日
要約：

【要約】【課題】ビームのぼけをも正確に測定することができるカーブフィッティング処理を用いたビームの測定方法を実現する。【解決手段】制御CPUはステージ駆動回路39を制御して、ステージ38を移動させ、検出器40を電子ビームEBの光軸の下に位置させる。この状態で図9に示すように、と同様に、検出器40におけるピンホール部材51上で矩形ビームの走査を行う。この走査は、位置決め偏向器制御回路34から位置決め偏向器29に走査信号を供給することによって行う。この走査により、検出器40から得られた信号は、AD変換器28を経て波形メモリー29に供給される。制御CPUは、波形メモリー29から波形データを読みだしフィッティング処理を行う。このフィッティング処理によってビームサイズ、ビーム位置、矩形ビームの4辺のエッジシャープネス、4辺の傾き、電流分布を求めることができる。

請求項（抜粋）：

ビームを点状の標識を含む所定領域を2次元的に走査し、ビームが点状の標識を横切る際に得られる信号を検出し、この走査に伴って検出されたビームの信号の変化に対してカーブフィッティングを施し、ビームのビームサイズ、ビーム位置、フォーカス情報の少なくともいずれかを測定するようにしたビームの測定方法。

IPC (4件)：

G01T 1/29 , H01J 37/04 , H01L 21/027 , H01L 21/66

FI (4件)：

G01T 1/29 A , H01J 37/04 A , H01L 21/66 H , H01L 21/30 541 N

引用特許：

審査官引用 (5件)

荷電粒子ビームの測定方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-328632 出願人：日本電子株式会社
特開平2-138894
特開昭55-083868

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