特許
J-GLOBAL ID:200903045965521649

粒子加速器

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 青山 葆 (外2名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-508381
公開番号(公開出願番号):特表平8-501636
出願日: 1993年09月21日
公開日(公表日): 1996年02月20日
要約:
【要約】電子ビーム加速器は、互いに直接融着する金属及びセラミック成分からなる加速チューブと、電子ビームの方向に見たときに、ほぼ矩形の形状であり、窓の長手軸に沿って見たときに、真空室に向かう凹形であって、窓を横切る方向の圧力差がない状態で測定したときに矩形の幅の多くて2倍の曲率半径を有する伝送窓とを有している。電子ビーム加速器は液体材料処理器としての使用に特に好適である。本発明の加速器の好ましい伝送窓は、エネルギーが伝達される窓の材料1グラム当たり少なくとも1500ワットのエネルギー伝達率に耐える。ある実施例は、より高い供与量で流体を照射したり、浮遊した固形物及びスラリーを含む液体を照射するのに特に好適である。処理現場間で液体材料処理器の再配置を可能にする可動運搬装置がさらに記載されている。
請求項(抜粋):
伝送窓を含む真空室と、 該真空室内にある電子ビーム発生器と、 前記真空室内にあり、前記電子ビーム発生器からの電子を加速して前記伝送窓に導く電子ビーム加速チューブとからなり、 前記加速チューブは互いに直接融着する金属及びセラミック成分からなり、前記伝送窓は均質であり、 (i)電子ビームの方向に見たときに、ほぼ矩形の形状であり、 (ii)窓の長手軸に沿って見たときに、真空室に向かう凹形であって、窓を横切る方向の圧力差がない状態で測定したときに矩形の幅の多くて2倍の曲率半径を有する、基板を照射する装置。
IPC (5件):
G21K 5/00 ,  C02F 1/30 ,  G21K 5/04 ,  H01J 33/04 ,  H05H 5/02

前のページに戻る