特許
J-GLOBAL ID：200903045974804130

低級炭化水素のハイドレート状物を含む材料およびその製造方法

発明者：
奥井 智治

奥井 智治 について

, 
前田 有理子

前田 有理子 について

, 
金子 克美

金子 克美 について


出願人/特許権者：
東京瓦斯株式会社

東京瓦斯株式会社 について


代理人 (1件)： 加茂 裕邦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-148729
公開番号（公開出願番号）：特開平10-324646
出願日： 1997年05月22日
公開日（公表日）： 1998年12月08日
要約：
【要約】【課題】新規且つ有用な多孔質材料の細孔内にそれら低級炭化水素を多量に含むハイドレート状物を含む材料及びその製造方法を得る。【解決手段】多孔質材料に対して、水を吸着させた後に又は水を吸着させると同時に、低級炭化水素を含むガスを接触させることにより得られた該多孔質材料の細孔内に低級炭化水素のハイドレート状物を含む材料及びその製造方法。
請求項（抜粋）：
多孔質材料に対して、水を吸着させた後に又は水を吸着させると同時に、低級炭化水素を含むガスを接触させることにより得られた該多孔質材料の細孔内に低級炭化水素のハイドレート状物を含む材料。
IPC (6件)：
C07C 9/02 ,  C07C 7/20 ,  C07C 11/04 ,  C10L 3/00 ,  C10L 5/00 ,  F17C 11/00
FI (6件)：
C07C 9/02 ,  C07C 7/20 ,  C07C 11/04 ,  C10L 5/00 ,  F17C 11/00 ,  C10L 3/00 Z
引用特許：
出願人引用 (1件)
  • ガスの貯蔵方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-037526   出願人：東京瓦斯株式会社
審査官引用 (3件)

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