レジスト組成物とレジストパターンの形成方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：井桁貞一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-251772
公開番号（公開出願番号）：特開平5-088367
出願日： 1991年09月30日
公開日（公表日）： 1993年04月09日
要約：

【要約】【目的】レジストパターンの形成方法に関し、電子線を光源として高感度で且つ解像性の優れた高感度のレジストパターンを形成することを目的とする。【構成】下記の一般式(1)で表されるメタクリル酸テトラヒドロピラニルを単位構造とする重合体またはその共重合体と、露光により酸を発生する発生剤とからなるレジスト組成物を作り、このレジストを被処理基板上に被覆し、電子線を選択露光し、アルカリ現像することを特徴としてレジストパターンの形成方法を構成する。【化3】

請求項（抜粋）：

下記の一般式(1)で表されるメタクリル酸テトラヒドロピラニルを単位構造とする重合体またはその共重合体と、露光により酸を発生する酸発生剤とからなることを特徴とするレジスト組成物。【化1】

IPC (5件)：

G03F 7/039 501 , G03F 7/004 503 , G03F 7/027 501 , G03F 7/029 , H01L 21/027

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