特許

J-GLOBAL ID：200903045979946154

パターン欠陥検査装置、及び、パターン欠陥検査方法

発明者： 後藤 博史 ,  飯塚 正美 ,  鈴木 忠 ,  小野 貴通
出願人/特許権者： 株式会社日立ハイテクノロジーズ
代理人 (1件)： 作田 康夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-219042
公開番号（公開出願番号）：特開2004-061254
出願日： 2002年07月29日
公開日（公表日）： 2004年02月26日
要約：

【課題】紫外レーザ光源を用いた照明でのコヒーレンス低減効果を長期に安定化し、微細なパターンを高分解能かつ安定に検出する。【解決手段】コヒーレンス低減手段であるレーザ光を拡散させる拡散板を用い、その拡散板の濃度フィルタに当たるレーザ光の位置を予め定められた制御内容に従って変化させ、拡散板の劣化による照明条件の変動を防ぐ。さらに、濃度フィルタに設ける微小な凹凸の粗密度合いを円形拡散板の半径方向に沿って変化させ、レーザ光軸と略直角方向に移動させる。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

紫外光を発生するレーザ光源と、該レーザ光源から射出されたレーザ光の光路中にあって該レーザ光の可干渉性を低減する可干渉低減手段と、該可干渉低減手段をレーザ光光軸に対して略直角方向に移動させる移動手段と、該可干渉低減手段を通過したレーザ光が対物レンズの瞳位置に集光され試料上に照射され試料上に形成されたパターンから発生する反射光を検出する検出手段とを備え、前記試料を一定速度で移動しつつ前記検出手段で前記反射光を連続的に検出して試料のパターンの欠陥を検出することを特徴とするパターン欠陥検査装置。

IPC (3件)：

G01N21/956 ,  G01B11/24 ,  H01L21/66

FI (4件)：

G01N21/956 A ,  H01L21/66 J ,  G01B11/24 F ,  G01B11/24 K

Fターム (47件)：

2F065AA56 ,  2F065BB02 ,  2F065CC19 ,  2F065DD03 ,  2F065FF04 ,  2F065GG04 ,  2F065HH04 ,  2F065JJ00 ,  2F065KK01 ,  2F065LL00 ,  2F065LL09 ,  2F065LL31 ,  2F065LL36 ,  2F065LL49 ,  2F065MM03 ,  2F065PP12 ,  2F065QQ03 ,  2F065QQ04 ,  2F065QQ11 ,  2F065QQ13 ,  2F065QQ17 ,  2F065QQ23 ,  2F065QQ25 ,  2G051AA51 ,  2G051AA56 ,  2G051AB01 ,  2G051AB02 ,  2G051BA05 ,  2G051BA10 ,  2G051BA11 ,  2G051CA03 ,  2G051CA04 ,  2G051CB01 ,  2G051CC07 ,  2G051DA07 ,  2G051EA04 ,  2G051EA12 ,  2G051EA14 ,  2G051EA23 ,  2G051EB01 ,  2G051EB02 ,  2G051FA10 ,  4M106AA01 ,  4M106BA05 ,  4M106CA39 ,  4M106DB16 ,  4M106DJ04

引用特許：

審査官引用 (1件)

• パタ-ン欠陥検査方法及びその装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-372769   出願人：株式会社日立製作所