特許

J-GLOBAL ID：200903045980936286

ブラックマトリックス薄膜付き基板、カラ-フィルタ基板、ブラックマトリックス薄膜形成用タ-ゲットおよび基板の製造方法

発明者： 高木 悟 ,  青嶋 有紀 ,  久保井 健
出願人/特許権者： 旭硝子株式会社 ,  日立金属株式会社
代理人 (1件)： 森田 寛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-015105
公開番号（公開出願番号）：特開2000-214309
出願日： 1999年01月25日
公開日（公表日）： 2000年08月04日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】 Crに代えることのできる優れた光学特性、耐久性、エッチング加工性を兼ね備えたMoTa合金のブラックマトリックス薄膜を提供する。【解決手段】 Taを1〜13重量%含有し、残部が実質的にMoである薄膜を基板上に設けた。またこれらの元素の酸化物、窒化物、炭化物あるいはそれらの組み合わせを用いることもできる。その薄膜とカラーフィルタ膜を組み合わせカラーフィルタ基板を作成する。Ta1〜13重量%を含有し残部がMoであり、かつ不純物元素としてAl+Si+Mn+Ca≦0.1重量%であるブラックマトリックス薄膜形成用ターゲットと、それを用いて、不活性ガス、酸素、窒素、炭素を含有するガスあるいはこれらの混合ガス中のいずれかで、基板上にスパッタリングして薄膜を形成する。

請求項（抜粋）：

Ta1〜13重量%を含有し、残部が実質的にMoである薄膜を基板上に設けたことを特徴とするブラックマトリックス薄膜付き基板。

IPC (6件)：

G02B 5/00 ,  C23C 14/34 ,  G02B 5/20 101 ,  G02F 1/1335 500 ,  H01J 11/02 ,  C22C 27/04 102

FI (7件)：

G02B 5/00 B ,  C23C 14/34 A ,  C23C 14/34 M ,  G02B 5/20 101 ,  G02F 1/1335 500 ,  H01J 11/02 B ,  C22C 27/04 102