特許

J-GLOBAL ID：200903045988781141

高分子複合体及びその製造方法

発明者： 奥田 英明 ,  西村 直人
出願人/特許権者： シャープ株式会社
代理人 (1件)： 佐野 静夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-360461
公開番号（公開出願番号）：特開2000-176260
出願日： 1998年12月18日
公開日（公表日）： 2000年06月27日
要約：

【要約】【課題】 本発明は、多孔質基体の孔を塞ぐ高分子溶液を簡単な工程で取り除くことができる高分子複合体の製造方法を提供することを目的とする。【解決手段】 本発明の高分子複合体の製造方法は、高分子ゲル膜によって表面が被覆された多孔質基体1から成るもので多数の透過孔4を有する高分子複合体を得るために、高分子溶液2を多孔質基体1上に塗布する工程と、該多孔質基体1に通風する工程と、該多孔質基体1上の前記高分子溶液2をゲル化する工程とから成ることを特徴とする。

請求項（抜粋）：

高分子ゲル膜によって表面が被覆された多孔質基体から成るもので多数の透過孔を有する高分子複合体を得るために、高分子溶液を前記多孔質基体上に塗布する工程と、該多孔質基体に通風する工程と、該多孔質基体上の前記高分子溶液をゲル化する工程とから成ることを特徴とする高分子複合体の製造方法。

IPC (2件)：

B01D 69/12 ,  B01D 39/16

FI (2件)：

B01D 69/12 ,  B01D 39/16 C

Fターム (37件)：

4D006GA02 ,  4D006HA03 ,  4D006MA01 ,  4D006MA03 ,  4D006MA06 ,  4D006MA22 ,  4D006MA31 ,  4D006MB16 ,  4D006MC18 ,  4D006MC23 ,  4D006MC33 ,  4D006MC36 ,  4D006MC38 ,  4D006MC39 ,  4D006MC44 ,  4D006MC49 ,  4D006MC62 ,  4D006MC83 ,  4D006MC88 ,  4D006NA41 ,  4D006NA46 ,  4D006NA61 ,  4D006PA01 ,  4D006PB04 ,  4D006PB06 ,  4D006PB22 ,  4D006PB24 ,  4D006PC52 ,  4D019AA01 ,  4D019AA03 ,  4D019BA13 ,  4D019BB01 ,  4D019BB08 ,  4D019BB10 ,  4D019BD01 ,  4D019CA03 ,  4D019CB06