特許

J-GLOBAL ID：200903045990011566

電子ビーム装置

発明者： 本荘 一郎
出願人/特許権者： 富士通株式会社
代理人 (1件)： 井桁 貞一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-189281
公開番号（公開出願番号）：特開平5-275322
出願日： 1992年07月16日
公開日（公表日）： 1993年10月22日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】電子エミッタ部の数を適正化して、その動作不良に伴う照射領域の欠陥発生を回避する。また、必要最小限度の部品交換で電子エミッタ部の故障に対応でき、維持コストを削減する。【構成】多数個の電子エミッタ部10をマトリクス状n×mに配列してマルチ電子ビーム発生源11を構成し、それに対向して配置された試料の照射領域12(大さN×M)を、マルチ電子ビームで分担して照射する装置において、n及びmは前記N及びMの少なくともそれぞれ2倍以上に相当する値である。また、前記マルチ電子ビーム発生源を、少なくとも電子エミッタ部を含む第1構造部と、電子エミッタ部からの電子ビームを収束および偏向操作するN×M個の鏡筒部を含む第2構造部とに2分し、且つ、第1および第2構造部の相対的な位置関係を変更可能に構成する。

請求項（抜粋）：

多数個の電子エミッタ部をマトリクス状に配列してマルチ電子ビーム発生源を構成し、該マルチ電子ビーム発生源に対向して配置された試料の照射領域を、前記電子エミッタ部からのそれぞれの電子ビームで分担して照射する電子ビーム装置において、前記照射領域の大きさをN×Mとするとき、前記マルチ電子ビーム発生源を構成する電子エミッタ部の数がn×mであり、n及びmは前記N及びMの少なくともそれぞれ2倍以上に相当する値であることを特徴とする電子ビーム装置。

IPC (5件)：

H01L 21/027 ,  H01J 37/06 ,  H01J 37/28 ,  H01J 37/305 ,  H01L 21/28

FI (2件)：

H01L 21/30 341 B ,  H01L 21/30 341 W