特許
J-GLOBAL ID:200903045990686725

垂直共振器型面発光レーザ及びその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 小鍜治 明 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-019330
公開番号(公開出願番号):特開平8-213693
出願日: 1995年02月07日
公開日(公表日): 1996年08月20日
要約:
【要約】【目的】 p型DBRを通らずにホールを活性層に注入し、低抵抗の垂直共振器型面発光レーザを提供する。【構成】 GaAs基板101上に、p-GaAs層102、p型ブラッグ反射器103、p型クラッド層104、AlGaAs層105、発光活性層106、AlGaAs層107、n型AlGaAsクラッド層108、n型ブラッグ反射器109、n型GaAsキャップ層110を積層している。AlGaAs層105からn-GaAs110まではポスト形状になっており、これをエアポスト113とよぶ。アノード112は、エアポスト近傍のクラッド層104上に形成されており、カソード111はエアポスト上に形成されている。エアポスト113の断面形状は中央部がくびれている。これによりアノード電極112をポスト113の近傍に設けることができ、しきい値電流の小さいレーザを実現できる。
請求項(抜粋):
下部ブラッグ反射器と、発光活性層と、上部ブラッグ反射器とを備えた垂直共振器型面発光レーザであって、エアポストの垂直断面がくびれた形状であり、該エアポストの底面は、前記発光活性層と前記下部ブラッグ反射器の間にある垂直共振器型面発光レーザ。

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