特許

J-GLOBAL ID：200903046000421141

投影光学系及び投影露光方法

発明者： 吽野 靖行
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 山下 穣平
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-094953
公開番号（公開出願番号）：特開2001-284221
出願日： 2000年03月30日
公開日（公表日）： 2001年10月12日
要約：

【要約】【課題】 コンタクトホールのような孤立的なパターンを、良好な解像度で且つ十分な焦点深度で形成する。【解決手段】 本発明の位相分布発生部材3、中央部分を遮光してもよく、斜線部10の円の半径は、この例では光透過領域全体の半径の半分としている。この位相分布発生部材3によって得られる点像分布関数I(r、z)によれば、中央部分を遮光しない場合よりも更に、中心暗部周りの像のデフォーカス特性が向上していることが分かる。位相分布発生部材3を作製するには、円周方向に複数の領域に分割して、部材の厚さ分布を螺旋階段状に変化させればよい。これによって、バイナリ光学素子の作製に広く用いられているリソグラフィ技術を応用した作製手法の適用が可能となり、高精度な素子形状の作製ができるようになる。

請求項（抜粋）：

結像光束に、光軸を中心として一周当たり2mπ(mは1以上の整数)のらせん状位相分布を与える部材を有することを特徴とする投影光学系。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/207

FI (3件)：

G03F 7/207 H ,  G03F 7/207 Z ,  H01L 21/30 515 D

Fターム (10件)：

2H097BA01 ,  2H097CA06 ,  2H097EA01 ,  2H097GB01 ,  2H097GB02 ,  2H097LA10 ,  2H097LA12 ,  5F046BA03 ,  5F046CB01 ,  5F046DA14