特許

J-GLOBAL ID：200903046001536724

マグネシウム合金及びその製造装置ならびにその製造方法

発明者： 井上 明久 ,  佐藤 雅浩 ,  渋谷 義継 ,  廣江 誠一 ,  佐藤 惇司
出願人/特許権者： 井上 明久 ,  シチズン時計株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-019144
公開番号（公開出願番号）：特開2001-207255
出願日： 2000年01月27日
公開日（公表日）： 2001年07月31日
要約：

【要約】【課題】 マグネシウム合金との密着性が良好であり、Mg特有の光沢感を維持したまま、耐食性の向上及び表面の硬質化を可能とすることを提供するものである。【解決手段】 表面に薄膜を有するマグネシウム合金であって、前記薄膜はマグネシウム合金からなるアモルファスの構造で構成されてなる薄膜であることを特徴とするマグネシウム合金及び複数ターゲット型のプラズマ発生機構、公転機構を有する試料台、自転機構を有する試料固定治具を有することを特徴とするマグネシウム合金の製造装置ならびにマグネシウム合金薄膜を試料表面に均一に形成する工程を有することを特徴とするマグネシウム合金の製造方法である。

請求項（抜粋）：

表面に薄膜を有するマグネシウム合金であって、前記薄膜はマグネシウム合金からなるアモルファスの構造で構成されてなる薄膜であることを特徴とするマグネシウム合金。

IPC (3件)：

C23C 14/14 ,  C22C 23/00 ,  C23C 14/34

FI (5件)：

C23C 14/14 D ,  C22C 23/00 ,  C23C 14/34 A ,  C23C 14/34 C ,  C23C 14/34 D

Fターム (12件)：

4K029AA02 ,  4K029AA24 ,  4K029BA18 ,  4K029BA22 ,  4K029BC01 ,  4K029BC02 ,  4K029BD03 ,  4K029CA05 ,  4K029DC04 ,  4K029DC16 ,  4K029JA02 ,  4K029JA08