特許

J-GLOBAL ID：200903046005081616

透過性基体へのレーザーマーキング方法

発明者： 高橋 勇 ,  矢口 洋一 ,  岩清水 直子
出願人/特許権者： 並木精密宝石株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-229535
公開番号（公開出願番号）：特開平7-060464
出願日： 1993年08月23日
公開日（公表日）： 1995年03月07日
要約：

【要約】【目的】 時計用サファイヤカバーガラス等の透過性基体への極細線を主とした、複雑でより自由なデザインの加飾マーキングを可能にする。【構成】 サファイヤ、透光性セラミックス、クリスタルガラス等の透過性基体へのマーキングにおいて、基体マーキング面に金属薄膜を形成し、レーザー照射機を用いて金属薄膜面マーキング部分にレーザー光線を照射し、レーザー光線の集光した熱エネルギーによりマーキング部分の金属薄膜を溶解して基体表層部表面に微細な凹凸状の刻印処理を行い、その後金属薄膜を全て除去する。

請求項（抜粋）：

サファイヤ、透光性セラミックス、クリスタルガラス等の透過性基体へのマーキングにおいて、基体マーキング面に金属薄膜を形成し、レーザー照射機を用いて金属薄膜面マーキング部分にレーザー光線を照射し、レーザー光線の集光した熱エネルギーによりマーキング部分の金属薄膜を溶解して基体表層部表面に微細な凹凸状の刻印処理を行い、その後金属薄膜を全て除去することを特徴とする透過性基体へのレーザーマーキング方法。

IPC (3件)：

B23K 26/00 ,  B01J 19/12 ,  B23K 26/18