特許
J-GLOBAL ID：200903046008458680
露光方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
佐藤 正年 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-024688
公開番号（公開出願番号）：特開平8-330223
出願日： 1990年08月21日
公開日（公表日）： 1996年12月13日
要約：
【要約】【課題】 露光光の波長を維持したままで、更に微細なマスクパターンでも、十分に露光転写できる露光方法。【解決手段】 照明光学系の光軸から偏心しかつ分離した照明光1と照明光2とを、パターン面に垂直方向に関して対称に傾斜されるようにマスクに照射し、照明光1の照射によるパターンからの0次回折光と、照明光2の照射によるパターンからの1次回折光とを投影光学系の光学パス1を通って基板上に到達させる。照明光2の照射によるパターンからの0次回折光と、照明光1の照射によるパターンからの1次回折光とを投影光学系の光学パス2を通って基板上に到達させる。光学パス1と光学パス2はパターンに対する投影光学系のフーリエ変換面もしくはその近傍において投影光学系の光軸からほぼ等距離だけ各々偏心される。
請求項（抜粋）：
マスク上に照明光を照射するための照明光学系と、前記マスクのパターンの像を基板上に投影する投影光学系とを有する露光装置を使って、前記基板上に前記マスクのパターンを転写する露光方法において、前記照明光を、前記照明光学系の光軸から偏心し、かつ分離した第1照明光と第2照明光とに変換し、前記第1照明光と第2照明光が前記パターン表面とほぼ垂直な方向に関して対称に傾斜されるように、前記第1照明光と第2照明光を前記マスクに照射し、前記第1照明光の照射によって前記パターンから発生された0次回折光と、前記第2照明光の照射によって前記パターンから発生された1次回折光とを前記投影光学系の第1光学パスを通って前記基板上に到達させ、前記第2照明光の照射によって前記パターンから発生された0次回折光と、前記第1照明光の照射によって前記パターンから発生された1次回折光とを前記投影光学系の第2光学パスを通って前記基板上に到達させ、前記第1光学パスと前記第2光学パスは、前記マスクのパターンに対する前記投影光学系のフーリエ変換面もしくはその近傍において前記投影光学系の光軸からほぼ等距離だけ各々偏心されていることを特徴とする露光方法。
IPC (2件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
H01L 21/30 515 D
, G03F 7/20 521
, H01L 21/30 527
