特許
J-GLOBAL ID:200903046011090651
パティキュレートフィルタの再生処理制御装置
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (3件):
岡田 次生
, 伏見 直哉
, 平野 ゆかり
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-008156
公開番号(公開出願番号):特開2005-201142
出願日: 2004年01月15日
公開日(公表日): 2005年07月28日
要約:
【課題】パティキュレートフィルタを再生処理するための目標温度への到達時間を短縮しつつ、目標温度の近傍において安定した温度制御ができるパティキュレートフィルタの再生処理装置を提供すること。【解決手段】パティキュレートを捕集するパティキュレートフィルタの再生化を排気ガスの温度によって制御するフィルタの再生処理制御装置であって、前記パティキュレートフィルタに入る排気ガスの温度を検出する温度検出手段と、該温度検出手段により検出された温度が所定温度以下のときにポスト噴射を断続的に実行し、前記温度が所定温度より高いときにポスト噴射を連続的に実行する燃料噴射手段と、を備える。【選択図】図1
請求項(抜粋):
パティキュレートを捕集するパティキュレートフィルタの再生化を排気ガスの温度によって制御するフィルタの再生処理制御装置であって、
前記パティキュレートフィルタに入る排気ガスの温度を検出する温度検出手段と、
該温度検出手段により検出された温度が所定温度以下のときにポスト噴射を断続的に実行し、前記温度が所定温度より高いときにポスト噴射を連続的に実行する燃料噴射手段と、
を備えるフィルタの再生処理制御装置。
IPC (4件):
F01N3/02
, F02D41/04
, F02D41/38
, F02D45/00
FI (5件):
F01N3/02 321B
, F01N3/02
, F02D41/04 380L
, F02D41/38 B
, F02D45/00 312Q
Fターム (31件):
3G084AA01
, 3G084BA13
, 3G084BA15
, 3G084EA11
, 3G084EB06
, 3G084EC03
, 3G084FA02
, 3G084FA20
, 3G084FA27
, 3G084FA32
, 3G084FA33
, 3G090AA02
, 3G090DA00
, 3G090DA04
, 3G090DA12
, 3G090EA02
, 3G090EA04
, 3G301HA02
, 3G301MA11
, 3G301MA18
, 3G301MA23
, 3G301MA26
, 3G301MA27
, 3G301NA08
, 3G301NC01
, 3G301NC02
, 3G301PA10Z
, 3G301PD11Z
, 3G301PE01Z
, 3G301PE06Z
, 3G301PE08Z
引用特許:
前のページに戻る