特許

J-GLOBAL ID：200903046014376912

薄膜形成装置

発明者： 山川 正志
出願人/特許権者： 三菱電機株式会社
代理人 (1件)： 高田 守
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-256214
公開番号（公開出願番号）：特開平6-108236
出願日： 1992年09月25日
公開日（公表日）： 1994年04月19日
要約：

【要約】【目的】 蒸発した蒸着物質により基板表面に形成される薄膜に不純物が混入しない良好な薄膜を形成する薄膜形成装置を得る。【構成】 蒸着物質5を収容する容器3aとノズル4を備えた蓋3bからなるバケット型るつぼ3を真空槽1内に設置し、このバケット型るつぼ3を加熱する加熱用フィラメント6をバケット型るつぼ3の周囲と底面側に配設し、この外側に熱シールド板7を設け、蓋3bに形成されたつば3cが保持されたセラミック24に排気口26を形成し、そのセラミック24によりバケット型るつぼ3,過熱用フィラメント6,熱シールド板7を密閉して蒸気発生源9を構成し、さらに、イオン化フィラメント10と熱シールド板12からなるイオン化手段13を配置したことを特徴としている。

請求項（抜粋）：

真空槽内に、薄膜が形成される基板と、ノズルが設けられ蒸着物質が収容されるるつぼ,このるつぼを加熱する加熱用フィラメント,この加熱用フィラメントからの輻射熱を遮断する熱シールド板からなる蒸気発生源と、前記るつぼから蒸発した蒸着物質が前記ノズルを通過する際形成される中性のクラスタの一部をイオン化してイオン化クラスタとするイオン化フィラメントと熱シールド板とからなるイオン化手段と、前記中性のクラスタおよびイオン化クラスタを加速し前記基板表面に衝突させて薄膜を形成する加速電極とアース電極とからなる加速手段と、を備えた薄膜形成装置において、前記るつぼを、前記蒸着物質を収容する容器と前記少なくとも1つのノズルが設けられた蓋とに分離可能なバケット型るつぼとするとともに、このバケット型るつぼの周囲と底面側に加熱用フィラメントを配設し、さらに前記バケット型るつぼと加熱用フィラメントとこの加熱用フィラメントからの輻射熱を遮断する熱シールド板とをセラミックで覆い、このセラミックに前記バケット用るつぼを保持させて前記蒸気発生源を構成したことを特徴とする薄膜形成装置。