特許

J-GLOBAL ID：200903046028318346

表面堆積物を除去するための遠隔チャンバ方法

発明者： ハーバート ハロルド ソーイン ,  ボ バイ
出願人/特許権者： マサチューセッツ インスティテュート オブ テクノロジー
代理人 (2件)： 谷 義一 ,  阿部 和夫
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-505281
公開番号（公開出願番号）：特表2007-530792
出願日： 2005年03月24日
公開日（公表日）： 2007年11月01日
要約：

本発明は、電子デバイスを製造する際に使用される堆積チャンバの内部などの表面から表面堆積物を除去するための改良されたリモートプラズマクリーニング方法に関する。改良は、遠隔チャンバから表面堆積物までの経路の内面のフルオロカーボンリッチプラズマ前処理を伴う。

請求項（抜粋）：

表面堆積物を除去するための方法であって、 (a)酸素とフルオロカーボンとのモル比が1:1未満である、フルオロカーボンと、任意選択で酸素とを含む前処理ガス混合物を、遠隔チャンバ内で活性化する工程と、その後、 (b)前記活性化前処理ガス混合物を、前記遠隔チャンバから前記表面堆積物までの経路の内面の少なくとも一部と接触させる工程と、 (c)酸素とフルオロカーボンとのモル比が少なくとも1:3である、酸素と、フルオロカーボンとを含むクリーニングガス混合物を、前記遠隔チャンバ内で活性化する工程と、その後、 (d)前記活性化クリーニングガス混合物を前記経路に通過させる工程と、 (e)前記活性化クリーニングガス混合物を前記表面堆積物と接触させ、それにより、前記表面堆積物の少なくともいくつかを除去する工程と を含むことを特徴とする方法。

IPC (4件)：

C23C 16/44 ,  H01L 21/306 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/304

FI (4件)：

C23C16/44 J ,  H01L21/302 101H ,  H01L21/205 ,  H01L21/304 645Z

Fターム (45件)：

4K030DA03 ,  4K030DA06 ,  5F004AA15 ,  5F004BA03 ,  5F004BA04 ,  5F004BA20 ,  5F004BB18 ,  5F004BD04 ,  5F004CB02 ,  5F004DA00 ,  5F004DA01 ,  5F004DA02 ,  5F004DA03 ,  5F004DA26 ,  5F004DB00 ,  5F004DB02 ,  5F004DB03 ,  5F004DB07 ,  5F004DB10 ,  5F045AA03 ,  5F045AA08 ,  5F045BB14 ,  5F045DP04 ,  5F045DQ10 ,  5F045EB06 ,  5F045EE06 ,  5F045EH11 ,  5F045EH13 ,  5F045GB07 ,  5F045HA13 ,  5F157AA76 ,  5F157BG04 ,  5F157BG06 ,  5F157BG14 ,  5F157BG15 ,  5F157BG32 ,  5F157BG39 ,  5F157BG42 ,  5F157BG72 ,  5F157BG76 ,  5F157CA04 ,  5F157CC11 ,  5F157CF36 ,  5F157CF90 ,  5F157DC61