特許

J-GLOBAL ID：200903046036888518

プラズマ処理装置内部品の製造方法及びプラズマ処理装置内部品

発明者： 根津 崇明
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 渡部 敏彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-277476
公開番号（公開出願番号）：特開2004-119475
出願日： 2002年09月24日
公開日（公表日）： 2004年04月15日
要約：

【課題】プラズマ暴露面に形成される絶縁体溶射膜の剥離を防止できるプラズマ処理装置内部品の製造方法及びプラズマ処理装置内部品を提供する。【解決手段】プラズマ処理装置10における処理室容器内部品のプラズマに暴露されるプラズマ暴露面に対して粗さ番目が60〜100のブラスト材をプラズマ暴露面に吹き付けるブラスト処理を施し、該ブラスト処理が施されたプラズマ暴露面を濃度が5〜30%のフッ酸溶液に10〜90分間に亘って浸漬して洗浄する浸漬洗浄処理を実行し、該浸漬洗浄処理が施されたプラズマ暴露面にアルミナを溶射する。【選択図】 図2

請求項（抜粋）：

被処理体をプラズマ処理するプラズマ処理装置の内部に配設されると共に、プラズマに暴露され且つ絶縁体溶射膜が形成されるプラズマ暴露面を有する石英製のプラズマ処理装置内部品の製造方法において、 前記プラズマ暴露面を砂刷りにより砂目に仕上げる砂刷り工程と、前記砂目に仕上げられたプラズマ暴露面を酸性の溶液で洗浄する洗浄工程と、絶縁体溶射膜を溶射する溶射工程とを有することを特徴とするプラズマ処理装置内部品の製造方法。

IPC (6件)：

H01L21/3065 ,  B01J19/08 ,  C03C17/23 ,  C23C4/02 ,  H01L21/205 ,  H05H1/46

FI (6件)：

H01L21/302 101M ,  B01J19/08 H ,  C03C17/23 ,  C23C4/02 ,  H01L21/205 ,  H05H1/46 A

Fターム (31件)：

4G059AA04 ,  4G059AB01 ,  4G059AB03 ,  4G059AB11 ,  4G059AC16 ,  4G059EA01 ,  4G075AA24 ,  4G075AA30 ,  4G075AA51 ,  4G075BB10 ,  4G075BC06 ,  4G075CA47 ,  4G075CA57 ,  4G075DA02 ,  4G075DA18 ,  4G075EB01 ,  4G075FB06 ,  4G075FC15 ,  4K031AA08 ,  4K031AB02 ,  4K031AB07 ,  4K031BA03 ,  4K031BA04 ,  4K031CB43 ,  5F004AA13 ,  5F004BD04 ,  5F045AA03 ,  5F045BB08 ,  5F045DP02 ,  5F045DQ10 ,  5F045EB11

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 石英ガラス部品及びセラミック部品並びにそれらの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-305754   出願人：東ソー株式会社
• プラズマエッチング装置用部材及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-096896   出願人：信越石英株式会社