特許
J-GLOBAL ID：200903046060476450
パターン描画方法および装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
筒井 大和
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-161429
公開番号（公開出願番号）：特開平5-013311
出願日： 1991年07月02日
公開日（公表日）： 1993年01月22日
要約：
【要約】【目的】 描画パターンの変更要求などに対して、計算処理時間やデータ量の増大などを招くことなく、迅速に対応することが可能なパターン描画技術を提供する。【構成】 電子ビーム2よってウェハ5にパターン描画を行うパターン描画装置に、パターンデータを保持する複数の面のパターンデータメモリ10aおよび10bと、第1メモリ15,リサイズ処理回路16,パターン整形処理回路17,輪郭処理回路18,スケーリング処理回路19,白黒反転処理回路20,ミラー反転処理回路21および第2メモリ22と、制御コンピュータ8の配下で、これらの動作を制御するパターン処理プロセッサ23とを備えた処理手段Aと、パターンデータに対する変更要求の有無に応じて、パターンデータの処理手段に対する転送を制御する判定部24とを設けた。
請求項（抜粋）：
ショットサイズが可変の粒子線を用い、この粒子線をパターンデータに基づいて制御することにより、基板上に所望のパターンを描画するパターン描画装置において、前記パターンデータに対する変更要求が発生した時、前記パターン描画装置の内部において、前記パターンデータに対してサイジング処理,およびスケーリング処理,白黒反転処理,ミラー反転処理のうちの少なくとも一つ以上の処理を施した後、前記基板に対する描画を行うことを特徴とするパターン描画方法。
FI (3件)：
H01L 21/30 341 J
, H01L 21/30 321
, H01L 21/30 331 A
