特許
J-GLOBAL ID：200903046063863349
多層膜X線スリツト
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
磯野 道造
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-264358
公開番号（公開出願番号）：特開平5-100092
出願日： 1991年10月14日
公開日（公表日）： 1993年04月23日
要約：
【要約】 (修正有)【目的】X線発生源から簡素な方法により微細なX線ビームを作り出すこと。【構成】X線の吸収係数の異なる複数種類の材料を用い、X線吸収係数の小さい材料層の両面にX線吸収係数の大きい材料層を被覆して多層膜を形成して多層膜X線スリットとする構成である。
請求項（抜粋）：
X線の吸収係数の異なる二種類の材料を用い、X線吸収係数の小さい材料の透過層の両面にX線吸収係数の大きい材料の吸収層を被覆した多層膜からなることを特徴とする多層膜X線スリット。
IPC (2件)：
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