特許
J-GLOBAL ID：200903046065865225
微小開口プローブ及び微小開口プローブの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-061032
公開番号（公開出願番号）：特開平8-262038
出願日： 1995年03月20日
公開日（公表日）： 1996年10月11日
要約：
【要約】【目的】 微小開口の形状を精度良く形成する。【構成】 透明な透明基体1と、透明基体1上に形成された金属若しくは半導体からなる光遮蔽層2と、光遮蔽層2の一部を酸化することによって設けられた光透過領域3と、を有する。
請求項（抜粋）：
透明な透明基体と、前記透明基体上に形成された金属若しくは半導体からなる光遮蔽層と、前記光遮蔽層の一部を酸化することによって設けられた光透過領域と、を有することを特徴とする微小開口プローブ。
IPC (2件)：
FI (2件)：
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