特許
J-GLOBAL ID：200903046067767689
真空吸着装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山川 政樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-082371
公開番号（公開出願番号）：特開平8-279549
出願日： 1995年04月07日
公開日（公表日）： 1996年10月22日
要約：
【要約】【目的】 ダスト等の影響を受けず、試料を高い平面に矯正する。【構成】 突子2,11,12の上面は同一平面を形成し、試料6を支承する。第1、第2の静圧シール部13,14の上面高さは、突子2の上面高さより僅かに低く、試料6との間に微小隙間23,24を形成する。微小隙間23,24は大きな抵抗となり、真空吸引時に真空吸着部3に流れ込む空気の量を少なくする。陽圧空気22は環状溝15を陽圧状態にし、外部から空気が微小隙間24に侵入しないようにする。微小隙間23は、陽圧空気に対して大きな抵抗となり、真空吸着部3に流れ込む陽圧空気を少なくする。
請求項（抜粋）：
上面が同一平面上にある多数の突子のみによって試料を支承し、内部に真空ポンプに接続される真空排気孔を設けた真空吸着器を備えた真空吸着装置であって、前記真空吸着器の上面中央部に前記真空排気孔に連通する真空吸着部を形成するとともに、この真空吸着部を取り囲むように形成され陽圧供給孔に連通する環状の陽圧部を設けたことを特徴とする真空吸着装置。
IPC (4件)：
H01L 21/68
, B23Q 3/08
, H01L 21/027
, H01L 21/304 321
H01L 21/68 P
, B23Q 3/08 A
, H01L 21/304 321 H
, H01L 21/30 503 C
