特許
J-GLOBAL ID：200903046069472791
乾燥装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
安原 正之 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-224836
公開番号（公開出願番号）：特開平5-050008
出願日： 1991年08月09日
公開日（公表日）： 1993年03月02日
要約：
【要約】【目的】 ワークにゆっくりと、しかし一定量のエナルギーを与える。【構成】 複数の、母材表面に塗布された塗料の塗膜に対する赤外線透過率が高くかつ母材の吸収率の高い領域の赤外線を発生する赤外線ランプ12を炉内に斜めに設置させたことを特徴とする乾燥装置
請求項（抜粋）：
複数の、母材表面に塗布された塗料の塗膜に対する赤外線透過率が高くかつ母材の吸収率の高い領域の赤外線を発生する赤外線ランプを、炉面に順次斜めに設置させたことを特徴とする乾燥装置。
IPC (2件)：
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