特許
J-GLOBAL ID：200903046082770491
イオン注入装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
小川 信一
, 野口 賢照
, 斎下 和彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-361026
公開番号（公開出願番号）：特開2004-193007
出願日： 2002年12月12日
公開日（公表日）： 2004年07月08日
要約：
【課題】イオンビームb、cによってクライオポンプPが正常に作動しなくなるという問題を解決する手段を提供する。【解決手段】イオンを生成するイオン源2と、イオンビームxにマグネットの磁力を作用させ、イオンビームの通路を拡大すると共に偏平に分散させてイオン選択を行なう質量分離部4と、前記偏平に分散されたイオンビームxの均質化を図る均一制御部5と、この均一制御部5を通過して平行性が調節されたイオンビームを被処理体7の表面にイオンaを打込むイオン打込み部6とからなるイオン注入装置1において、イオンビームを案内する真空チャンバー9の側壁の開口に接続された吸入口9aに、前記真空チャンバー9内を真空に保持するための真空ポンプ8が連結されており、更に前記吸入口8aにイオンビームが侵入するのを防止する遮蔽板10を設けてなるイオン注入装置。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
イオンを生成するイオン源と、このイオン源から引き出されたイオンビームにマグネットの磁力を作用させ、質量の相違を利用してその進行方向を円弧状に曲げてイオンビームの通路を拡大すると共に偏平に分散させてイオン選択を行なう質量分離部と、前記偏平に分散されたイオンビームの均質化を図る均一制御部と、前記均一制御部を通過して平行性が調節されたイオンビームを被処理体の表面にイオンを打込むイオン打込み部とからなるイオン注入装置において、
イオンビームを案内する真空チャンバー側壁の開口に接続された吸入口に、前記真空チャンバー内を真空に保持するための真空ポンプが連結されており、更に前記吸入口にイオンビームが侵入するのを防止する遮蔽板を設けてなるイオン注入装置。
IPC (3件)：
H01J37/18
, H01J37/317
, H01L21/265
H01J37/18
, H01J37/317 Z
, H01L21/265 603C
5C033KK09
, 5C034CC02
, 5C034CC16
