特許

J-GLOBAL ID：200903046113416080

電子線又はX線用ネガ型レジスト組成物

発明者： 高橋 表 ,  安波 昭一郎 ,  阿出川 豊
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (1件)： 小栗 昌平 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-302633
公開番号（公開出願番号）：特開2003-107705
出願日： 2001年09月28日
公開日（公表日）： 2003年04月09日
要約：

【要約】【課題】 所望の高感度及び高解像度の両立を達成することのでき、矩形プロファイルが得られ且つ減圧条件下における電離放射線照射後引き置き時の線幅変化が低減されたネガ型レジスト組成物を提供すること。【解決手段】 電子線又はX線の照射により、酸を発生する化合物、アルカリ水溶液に可溶な樹脂、分子内に脂環式環を有する、酸の作用により水を発生する化合物及び塩基性化合物を含有することを特徴とする電子線又はX線用ネガ型レジスト組成物。

請求項（抜粋）：

(A)電子線又はX線の照射により、酸を発生する化合物、(B)アルカリ水溶液に可溶な樹脂、(C)分子内に脂環式環を有する、酸の作用により水を発生する化合物及び(D)塩基性化合物を含有することを特徴とする電子線又はX線用ネガ型レジスト組成物。

IPC (6件)：

G03F 7/038 601 ,  C07C 31/137 ,  C07C 35/31 ,  C07C 35/37 ,  G03F 7/004 501 ,  H01L 21/027

FI (6件)：

G03F 7/038 601 ,  C07C 31/137 ,  C07C 35/31 ,  C07C 35/37 ,  G03F 7/004 501 ,  H01L 21/30 502 R

Fターム (21件)：

2H025AA01 ,  2H025AA04 ,  2H025AB16 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AD01 ,  2H025BE07 ,  2H025CB14 ,  2H025CB16 ,  2H025CB17 ,  2H025CB45 ,  2H025CC17 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17 ,  4H006AA03 ,  4H006AB78 ,  4H006FC26 ,  4H006FC36 ,  4H006FE11 ,  4H006FE12 ,  4H006FG22