特許
J-GLOBAL ID:200903046132624890

真空蒸着めっき方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 植木 久一
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-176116
公開番号(公開出願番号):特開平5-339729
出願日: 1992年06月09日
公開日(公表日): 1993年12月21日
要約:
【要約】【目的】 Cr、Mg等の低延性金属やSiO2 等のセラミックスなどの様にワイヤ状に加工することのできない低延性素材を、原料蒸発槽内に連続的に送給可能にし、均質なめっき材を効率良く製造することのできる真空蒸着めっき法を提供すること。【構成】 低延性素材からなるめっき原料を短尺の棒状に加工すると共に、その両端に嵌合部を形成しておき、該棒状原料を嵌合接続しながら連続的に蒸着原料槽内へ送給しつつ真空蒸着めっきを行なう。
請求項(抜粋):
真空室内に設置された蒸発原料槽内のめっき原料を加熱蒸発させ、該原料槽上の被めっき材表面にめっきを施す真空蒸着めっき方法において、低延性素材よりなるめっき原料を短尺の棒状に加工すると共に、その両端に嵌合部を形成しておき、該棒状原料を嵌合接続しながら連続的に蒸発原料槽内へ供給することを特徴とする真空蒸着めっき方法。
IPC (2件):
C23C 14/56 ,  C23C 14/24

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