特許

J-GLOBAL ID：200903046137828052

磁気記録媒体の製造方法及び製造装置

発明者： 武田 守
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 大澤 斌 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-270773
公開番号（公開出願番号）：特開2003-085741
出願日： 2001年09月06日
公開日（公表日）： 2003年03月20日
要約：

【要約】【課題】 磁気記録媒体の製造時に各層に対応する塗料の塗布を、塗布厚をリアルタイムで測定しながら行う際に、測定対象である塗膜以外の例えば基板の影響が測定膜厚に及ぶことがあり、正確な膜厚測定ができないことがある。本発明は、前処理を行うことにより、測定対象の塗膜以外の影響を排除して正確な塗膜膜厚測定を可能にする方法及び測定を提供する。【解決手段】 膜厚測定対象である塗膜の表面及び裏面からの反射光(R1及びR2)及びこれ以外の反射光(R3)から成る干渉光から複数の時間関数を含む分光情報を得、これらの時間関数を対応する複数の周波数関数に変換し、設定した上限及び下限周波数範囲内の周波数を選択し、選択された周波数を再度時間関数に変換し、該時間関数に基づいて前記塗膜の膜厚を算出し、算出した膜厚に基づいて塗布量制御を行う。

請求項（抜粋）：

非磁性支持体上に磁性膜を形成し、該磁性膜上に塗料を塗布乾燥して塗膜を形成して成る磁気記録媒体の製造方法において、所要の波長範囲の光を前記塗膜に照射し、該光の前記塗膜表面からの反射光、前記塗膜を透過して該塗膜の裏面から反射する反射光、及び塗膜の表裏面以外からの反射光を含む複数の光の干渉波を分光して塗料塗布直後の塗膜の膜厚を測定して得られる複数の時間関数を含む分光情報を得、該時間関数を対応する複数の周波数関数に変換し、設定した上限及び下限周波数範囲内の周波数を選択し、選択された周波数を再度時間関数に変換し、該時間関数に基づいて前記塗膜の膜厚を算出し、算出した膜厚に基づいて塗布量制御を行うことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。

IPC (5件)：

G11B 5/84 ,  G11B 5/64 ,  G11B 5/725 ,  G11B 5/842 ,  G11B 5/85

FI (5件)：

G11B 5/84 B ,  G11B 5/64 ,  G11B 5/725 ,  G11B 5/842 Z ,  G11B 5/85 A

Fターム (18件)：

5D006AA01 ,  5D006AA05 ,  5D006AA06 ,  5D006BB03 ,  5D006DA07 ,  5D006EA01 ,  5D006EA03 ,  5D006FA00 ,  5D112AA05 ,  5D112AA07 ,  5D112AA22 ,  5D112BB05 ,  5D112BC01 ,  5D112BC02 ,  5D112CC01 ,  5D112CC10 ,  5D112FA02 ,  5D112JJ01