特許
J-GLOBAL ID：200903046156109636
配向膜形成方法、配向膜形成装置、液晶パネル、液晶プロジェクタおよび電子機器
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
佐々木 宗治
, 小林 久夫
, 木村 三朗
, 大村 昇
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-337537
公開番号（公開出願番号）：特開2004-170744
出願日： 2002年11月21日
公開日（公表日）： 2004年06月17日
要約：
【課題】信頼性の高い配向膜を量産性良く形成することが可能な配向膜形成方法、配向膜形成装置、液晶パネル、液晶プロジェクタおよび電子機器を提供する。【解決手段】基板9上に配向膜を形成する方法であって、ターゲット5から放出されるスパッタ粒子が一方向から斜めに基板9に入射するようにスパッタリングを実施する。これにより、基板9に対して斜め方向に結晶成長した複数の柱状構造を有する無機材料からなる配向膜を形成する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
基板上に配向膜を形成する方法であって、
ターゲットから放出されるスパッタ粒子が一方向から斜めに基板に入射するようにスパッタリングを実施し、基板に対して斜め方向に結晶成長した複数の柱状構造を有する無機材料からなる配向膜を形成することを特徴とする配向膜形成方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (3件)：
2H090HB03Y
, 2H090HD14
, 2H090MB06
