特許
J-GLOBAL ID：200903046164930934
錫またははんだめっき浴
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小松 秀岳 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-340882
公開番号（公開出願番号）：特開平5-311483
出願日： 1991年12月24日
公開日（公表日）： 1993年11月22日
要約：
【要約】【目的】 不溶性アノードを用い、界面活性剤を添加した酸性錫またははんだめっき浴における有機化合物の電解生成物の量を抑制すること。【構成】 ナフトールにエチレンオキサイドまたはプロピレンオキサイドの重合体を付加した界面活性剤の一種または二種以上を添加した酸性錫またははんだめっき浴において、上記界面活性剤がβ異性体であることを特徴とする錫またははんだめっき浴。酸としてフェノールスルフォン酸を用いたものが特に好ましい。
請求項（抜粋）：
ナフトールにエチレンオキサイドまたはプロプレンオキサイドの重合体を付加した界面活性剤の1種もしくは2種以上を添加した酸性錫またははんだめっき浴において、該界面活性剤がβ異性体であることを特徴とする錫またははんだめっき浴。
引用特許：
前のページに戻る
