特許

J-GLOBAL ID：200903046166713167

X線分析装置

発明者： 片山 忠二
出願人/特許権者： 株式会社マックサイエンス
代理人 (1件)： 阿仁屋 節雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-259611
公開番号（公開出願番号）：特開平6-109665
出願日： 1992年09月29日
公開日（公表日）： 1994年04月22日
要約：

【要約】【目的】 X線分析装置の気密ケース内における試料の設置状態が試料設置基準位置から位置ずれしているか否かを、気密ケースを閉じた状態で確認可能にすること。【構成】 測定雰囲気下では、X線回折測定の対象となる試料1の周囲が気密ケース8で覆われた状態となるX線分析装置において、所定の測定雰囲気下での前記試料1とX線回折測定のための試料設置基準位置Sとの実際の位置関係を確認するために、前記気密ケース8内を所定の測定雰囲気にした状態で前記気密ケース8内の試料設置基準位置Sに向けて拡散X線を発射して前記気密ケース8内の試料1の透過X線像を撮影する透過X線像撮影手段14を備える。

請求項（抜粋）：

試料を入射X線ビームの進路上となる試料設置基準位置に位置決めするための試料位置調整装置と、前記試料の周囲を所定の測定雰囲気に保つために試料の周囲を覆う気密ケースと、この気密ケースの一部に設けられたX線照射窓の外側から気密ケース内の試料設置基準位置に入射X線ビームを当てるX線発生装置と、前記入射X線ビームの照射によって得られる試料のX線画像を検出するための2次元X線検出器と、この2次元X線検出器の検出したX線画像を読み取る画像読取装置とを備えて、前記試料の周囲を気密ケースで覆った状態でX線回折測定等を行うX線分析装置であって、前記気密ケース内を所定の測定雰囲気にした状態での試料と前記試料設置基準位置との実際の位置関係を確認するために、前記気密ケース内を所定の測定雰囲気にした状態で前記気密ケース内の試料設置基準位置に向けて拡散X線を発射して前記気密ケース内の試料の透過X線像を撮影する透過X線像撮影手段を備えたことを特徴とするX線分析装置。