特許
J-GLOBAL ID：200903046169553322
固体撮像素子およびその製造方法
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
池内 寛幸 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-221925
公開番号（公開出願番号）：特開平11-214664
出願日： 1998年08月05日
公開日（公表日）： 1999年08月06日
要約：
【要約】【課題】 固体撮像素子において反射防止膜として用いられるシリコン窒化膜は、膜の内部応力が高く画質を低下させる「白傷」発生の原因となる。また、結晶構造が緻密に過ぎ、暗電流抑制のための基板への水素添加を十分に実施できない。そこで、反射防止膜を適切に選択することにより、出力画像の画質を良好に保持しつつ感度を向上させた固体撮像素子を提供する。【解決手段】 半導体基板21内に形成された受光部22の上方に、屈折率が1.9以上の酸化物からなる反射防止膜25を形成する。酸化物としては、チタン、ジルコニウム、タンタル、インジウム、ニオブなどの金属酸化物を適用することができる。
請求項（抜粋）：
半導体基板と、前記半導体基板内に形成された受光部と、前記受光部の上方に形成された反射防止膜とを備え、前記反射防止膜が、屈折率が1.9以上の酸化物からなることを特徴とする固体撮像素子。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 27/14 D
, H04N 5/335 U
