特許

J-GLOBAL ID：200903046175600405

洗浄処理装置

発明者： 坂下 健司 ,  金子 勝則
出願人/特許権者： 芝浦メカトロニクス株式会社
代理人 (1件)： 鈴江 武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-151050
公開番号（公開出願番号）：特開平10-337543
出願日： 1997年06月09日
公開日（公表日）： 1998年12月22日
要約：

【要約】【課題】 ワーク表面にむらを生じさせず、このワーク表面の洗浄を良好に行うことが可能な洗浄処理装置を提供すること。【解決手段】 ワーク12に付着したパーティクルを洗浄して除去する洗浄処理装置において、上記ワーク12の搬入口13および搬出口14が設けられた処理チャンバ11と、ワーク12を搬送して上記処理チャンバ11に搬入、搬出させる搬送手段15と、回転駆動され、上記搬送手段15により搬送されるワーク12に接触し、このワーク12に付着したパーティクルを洗浄除去する洗浄手段16と、上記洗浄手段16と上記ワーク12の少なくとも一方を上記ワーク12の搬送方向と交差する方向に揺動させる揺動手段と、を具備したことを特徴とする。

請求項（抜粋）：

ワークに付着したパーティクルを洗浄して除去する洗浄処理装置において、上記ワークの搬入口および搬出口が設けられた処理チャンバと、上記ワークを搬送して上記処理チャンバに搬入、搬出させる搬送手段と、回転駆動されるとともに、上記搬送手段により搬送される上記ワークに接触し、このワークに付着したパーティクルを洗浄除去する洗浄手段と、上記洗浄手段と上記ワークの少なくとも一方を上記ワークの搬送方向と交差する方向に揺動させる揺動手段と、を具備したことを特徴とする洗浄処理装置。

IPC (4件)：

B08B 3/02 ,  B08B 1/04 ,  H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304

FI (4件)：

B08B 3/02 B ,  B08B 1/04 ,  H01L 21/304 341 B ,  H01L 21/304 341 N